發表論文內容檢視

字型大小: 
晶圓切割後檢驗漏檢率品質之探討
郭庭豪 Ting-Hao Kuo

最後修改日期: 2025-05-02

摘要


在半導體製造中,晶圓進料檢驗為確保來料品質之關鍵環節,若不良晶圓未在檢驗階段被攔截,將可能導致製程異常、設備損耗、良率下降,甚至損害客戶信任與企業聲譽,增加營運成本與風險。因此,降低漏檢率對穩定品質與提升效能至關重要,本研究聚焦於晶柱切割後的進料檢驗流程,探討影響漏檢率的關鍵因素,並透過問卷調查與歷史資料收集,分析人為因素、抽樣方式與設備穩定性等變數對漏檢率之影響。進一步以迴歸分析建立統計模型,量化其關聯性,研究結果可作為優化檢驗流程之依據,提出具體改善建議,如加強人員訓練、優化抽檢策略與提升設備維護管理,以降低檢驗風險、提高準確性,進而強化來料品質控制,提升企業品質競爭力與生產效率。